產(chǎn)品概述

　　無掩膜光刻機是一款高精度、高效能的光刻設備，專為微納米技術、MEMS、光學元件制造等領域設計。

　　該設備采用先進的無掩膜光刻技術，支持快速圖形變化和高分辨率控制，廣泛應用于半導體制造、微電子研發(fā)和光學器件生產(chǎn)等高精度需求的領域。

　　憑借其卓越的加工精度和靈活的操作界面，無掩膜光刻機大大提升了生產(chǎn)效率，滿足了小批量和精細化生產(chǎn)的需求。

　　產(chǎn)品特點

　　靈活設計：無需掩膜，快速更改圖案，適合原型和定制。

　　高分辨率：實現(xiàn)微米至納米級精細光刻。

　　高效流程：減少制程時間，提升生產(chǎn)效率。

　　多材料兼容：適用于半導體、聚合物等多種材料。

　　低成本：無掩膜制作成本，適合研發(fā)和小批量生產(chǎn)。

　　廣泛應用：用于微電子、MEMS、光學器件等制造領域。

　　技術參數(shù)：

　　1、工作波長：405nm

　　2、激光功率

　　最大功率：300mW

　　3、分辨率

　　最小分辨率：0.3μm

　　4、對準精度

　　正面：0.1μm(1mm區(qū)域內(nèi))，側面：1μm(2.5μm)

　　5、掃描速度

　　3-150 mm2/min

　　6、轉盤尺寸

　　最大8英寸